Descripció dels productes

El grafit de -alta puresa{0}}alta{1}}puresa és un material de carboni avançat refinat mitjançant un procés especial, les seves característiques bàsiques són una puresa de carboni extremadament alta i una resistència mecànica excel·lent.

Full de dades de resistència de grafit d'alta puresa i alta resistència

Funció	abast	observacions
Resistència a la flexió	50-150MPa (some super strong class>200MPa)	Cadascun té un grafit més homogeni
Resistència a la compressió (compressió)	100-300MPa	The retention rate at high temperature is>80%
Mòdul elàstic (Young)	10-30 GPa	Els materials anisotròpics s'han de dividir en direccions
Tenacitat a la fractura (K_IC)	1,5-3,0 MPa·m^1/2	2-3 vegades més gran que el grafit normal

Factors que influeixen: matèria primera, procés d'emmotllament, grau de grafitització.

Nota: els productes admeten la personalització personalitzada.

Avantatges clau

(1) Rendiment estable en condicions extremes: pot funcionar de manera fiable durant molt de temps en entorns industrials extremadament durs com ara alta temperatura, alta pressió, buit, corrosió, alt voltatge i alt corrent.

(2) Vida útil allargada: l'alta resistència i la resistència al desgast milloren significativament la vida útil dels components en entorns d'alta temperatura o condicions de desgast.

(3) Precisió millorada del control del procés: l'alta puresa garanteix un procés lliure de contaminació{{1}, la baixa expansió tèrmica i l'alta conductivitat tèrmica promouen un escalfament uniforme i un control precís de la temperatura.

(4) Assegureu-vos la qualitat del producte final: en semiconductors, creixement de cristalls i altres camps, eviteu els defectes del producte causats per la introducció d'impureses materials.

(5) Alta fiabilitat i seguretat: baixa taxa de defectes (baixa porositat), rendiment estable, compleixen els requisits estrictes de seguretat i fiabilitat de la indústria-de gamma alta.

Alta-Resistència Alta-Puresa estàndard de puresa de grafit

Normalment es requereix que sigui superior o igual al 99,99% (4N) i les aplicacions-de gamma alta (com ara semiconductors) requereixen superior o igual al 99,999% (5N).