Grafit ISO d'alta puresa

Grafit ISO d'alta puresa
Detalls:
El grafit ISO d'alta puresa té un contingut de carboni superior o igual al 99,99%, una estructura densa, una excel·lent conductivitat tèrmica/elèctrica i una resistència a la calor, ideal per a semiconductors i forns d'alta-temperatura.
MOQ: 1 bossa/50 kg
Material: grafit natural
Enviar la consulta
Descripció
Enviar la consulta

Nucli del producte

El grafit ISO d'alta puresa es fabrica mitjançant premsa isostàtica en fred (CIP) per aconseguir una densificació uniforme 3D a pressió ultra-(140-200 MPa). Fet a partir de coc de petroli purificat a més de 2500 graus, presenta una densitat gairebé-teòrica i una isotropia excel·lent, cosa que garanteix un rendiment estable en diverses aplicacions.

Paràmetres tècnics

Paràmetre

Valor clau

Densitat

1,80–1,92 g/cm³

Contingut de cendres

Menor o igual a 100 ppm

Relació d'anisotropia

1.0–1.05

Coeficient d'expansió tèrmica (CTE)

4,2–5,0 × 10⁻⁶/K (RT–400 graus)

Puresa

C Superior o igual al 99,9%

Conductivitat tèrmica

110–130 W/(m·K)

Força a la flexió

55-85 MPa

Els productes admeten la personalització personalitzada.

Característiques bàsiques

  • Puresa ultra-elevada: impureses de cendres/metall ultra-baixes (Fe, Ca, Na), ICP-MS verificada, s'ajusten a camps sensibles a la impuresa-.
  • Excel·lent densitat: alta densitat aparent, baixa porositat, augmentant la conductivitat tèrmica i la capacitat mecànica.
  • Isotropia: diferències mínimes d'expansió tèrmica/resistència a la flexió entre direccions.
  • Resistència a la calor extrema: estable a altes temperatures en atmosferes inerts (revestiment necessari en ambients oxidants per sobre de temperatures específiques).
  • Resistència al xoc tèrmic: suporta els canvis ràpids de temperatura sense trencar-se.
  • Mecanització de precisió: El grafit ISO d'alta puresa presenta toleràncies estrictes i es pot processar en peces complexes (discos de turbina, gresols).

Aplicacions clau

  • Semiconductor: components tèrmics del forn de silici monocristal·lí/portadors d'hòsties (resistència a -alta temperatura, impureses ultra{-baixes).
  • Fotovoltaic: gresols/escalfadors de lingot de polisilici (resistent a l'erosió de la fosa de silici).
  • Energia nuclear: reflectors de neutrons del reactor refrigerat per-gas-alta temperatura (compleix les especificacions de grau-nuclear).
  • Aeroespacial: insercions de la gola del broquet de coets/aletes de míssils (resisteixen a l'ablació de temperatures -extremades).
  • Metal·lúrgia-de gamma alta: gresols de fusió d'aliatge de titani (reutilitzables, sense fuites).
  • Equips industrials: elèctrodes per electroerosió/peces clau del-forn d'alta temperatura.

Certificació i personalització

 

El grafit ISO d'alta puresa compleix amb les normes SEMI F76 (semiconductor), ISO 8005 (nuclear), EN 10298/ASME BPVC (seguretat) i RoHS 3.0 (mediambiental). Els serveis personalitzats inclouen: silicicidació (per millorar la resistència a l'oxidació), impregnació secundària (per augmentar la densitat) i optimització d'estructura ultra-(per millorar la tenacitat).

High Purity ISO Graphite
High Purity ISO Graphite

Etiquetes populars: Grafit ISO d'alta puresa, fabricants de grafit ISO d'alta puresa de la Xina

Enviar la consulta